Die epitaktische Abscheidung von AIIIBV-Halbleitern durch Pyrolyse metallorganischer Verbindungen erfolgte bisher vorzugsweise auf isolierenden Substraten (MANASEVIT). I n der Literatur wurde die Abscheidung von GaAs auf GaAs und Ge erwiihnt (MANASEVIT, SIMPSON ; RAI-CHOUDHURY). Im Rahmen der vorli
Epitaktische Abscheidung von GaAs im System Ga(CH3)3AsH3H2 (I) Autoepitaktische Abscheidung
✍ Scribed by Dr. V. Gottschalch; Dr. W.-H. Petzke; Prof. Dr. sc. E. Butter
- Publisher
- John Wiley and Sons
- Year
- 1974
- Tongue
- English
- Weight
- 587 KB
- Volume
- 9
- Category
- Article
- ISSN
- 0232-1300
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✦ Synopsis
Abstract
Diese Arbeit beschreibt einige Merkmale der Ga(CH~3~)~3~/AsH~3~/H~2~ Pyrolyse. Die Qualität der autoepitaktischen GaAs‐Schichten wurde ätztechnisch, röntgenographisch und durch Betrachtung der Oberflächenmorphologie untersucht. Es ergab sich ein charakteristischer Einfluß der Züchtungsbedingungen (As/Ga‐Verhältnis, Substrattemperatur) auf die Schichtqualität.
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