Die vorliegende Arbeit legt Ergebnisse dar, die bei der Zuchtung von Si-l3inkristrtllcti mit einem Durchmesser bis 43 mm nach der Methode des tiegelfreien Zonenziehcns unter Anwendung eines axialen Gleichstromes erzielt werden konnten. Der EinfluO der Jouleschen Wiirme und des Peltiereffektes auf di
Über Versetzungsbildungsmechanismen bei der Züchtung von Si-Einkristallen und ihre Deutung
✍ Scribed by Dr.Phys. W. Geil; Dr. A. Lebek; Dipl. Phys. K. Schmugge
- Publisher
- John Wiley and Sons
- Year
- 1976
- Tongue
- English
- Weight
- 647 KB
- Volume
- 11
- Category
- Article
- ISSN
- 0232-1300
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✦ Synopsis
Abstract
Die Züchtung von 〈111〉 orientierten Si‐Einkristallen hoher struktureller Perfektion wird mit steigendem Kristalldurchmesser schwieriger. Deshalb ist für die Entwicklung geeigneter Züchtungsverfahren zur Herstellung versetzungsfreier Kristalle die Kenntnis über die Bildung von Versetzungen in der versetzungsfreien Matrix von Bedeutung. Unter der Voraussetzung, daß das Überschreiten des Wertes der kritischen Schubspannung die Ursache der Versetzungsbildung ist und, daß die Spannung im Kristall sowohl durch die Existenz radialer und axialer Temperatur‐ und Fremdstoffgradienten bedingt sind, werden die Unterschiede für die Mindestpannungen bei bestimmten bevorzugten Züchtungsrichtungen aus einem Modell der dichtesten Kugelpackung bestimmt. Als bevorzugte Züchtungsrichtungen werden dabei die 〈111〉‐ und 〈100〉‐Orientierung angesehen. Im Ergebnis der Arbeit resultieren Hinweise über die Verfahrensweise beim Züchten von Si‐Einkristallen mit bestimmten Eigenschaften.
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