The formation of anodic oxide films on tantalum in non-aqueous solutions

✍ Scribed by D.A Vermilyea

• Publisher: Elsevier Science
• Year: 1954
• Weight: 560 KB
• Volume: 2
• Category: Article
• ISSN: 0001-6160
• DOI: 10.1016/0001-6160(54)90070-x

✦ Synopsis

The anodic films formed on tantalum in many non-aqueous solutions have been found to consist of two layers. Next to the metal there is a layer of Ta206 with the same characteristics as that of films formed in aqueous electrolytes, while between the TaeOb film and the solution there is a layer which is characteristic of the forming solution. Changes in the relative thicknesses of the two layers with formation rate, temperature, and forming solution result in a dependence of formation rate on the history of the film.

During anodic oxidation it has been found that the tantalum ions move out through the Tat06 film to react with oxygen at the oxide-electrolyte interface. L.4 FORMATION DE FILMS ANODI UES SUR LE TANTALE DANS DES % SOLUTIONS N N-AQUEUSES I1 a &6 constat que les films anodiques, form& sur le tantale, dans des solutions non-aqueuses, consistent en deux couches. En contact immCdiat avec le m&al on trouve une couche de Tat05 ayant les m&mes caractbristiques que les films form& dans des &ctrolytes aqueux, alors qu'entre la couche de TazOa et la solution il y a formation d'une couche dont le caractere depend de la solution.

Les changements dans les epaisseurs relatives des deux couches, en fonction de la vitesse de formation, de la tempgrature et du genre de solution, donnent lieu Q une d+endance de la vitesse de formation sur l'histoire du film. On a constat que pendant l'oxydation anodlque, les ions du tantale se deplacent B travers la couche de TalOs pour reagir avec l'oxyg&ne B l'interface oxyde-electrolyte.