[IEEE 2003 International Symposium on VLSI Technology, Systems and Applications. Proceedings of Technical Papers - Hsinchu, Taiwan (6-8 Oct. 2003)] 2003 International Symposium on VLSI Technology, Systems and Applications. Proceedings of Technical Papers. (IEEE Cat. No.03TH8672) - Scaling of high-k dielectrics towards sub-1nm EOT

✍ Scribed by Heyns, M.; Beckx, S.; Bender, H.; Blomme, P.; Boullart, W.; Brijs, B.; Carter, R.; Caymax, M.; Claes, M.; Conard, T.; De Gendt, S.; Degraeve, R.; Delabie, A.; Deweerdt, W.; Groeseneken, G.; Henson, K.; Kauerauf, T.; Kubicek, S.; Lucci, L.; Lujan, G.; Mentens, J.; Pantisano, L.; Petry, J.; Richard, O.; Rohr, E.; Schram, T.; Vandervorst, W.; Van Doorne, P.; Van Elshocht, S.; Westlinder, J.; Witters, T.; Zhao, C.; Cartier, E.; Chen, J.; Cosnier, V.; Green, M.; Jang, S.E.; Kaushik, V.; Kerber, A.; Kluth, J.; Lin, S.; Tsai, W.; Young, E.; Manabe, Y.; Shimamoto, Y.; Bajolet, P.; De Witte, H.; Maes, J.W.; Date, L.; Pique, D.; Coenegrachts, B.; Vertommen, J.; Passefort, S.

• Book ID: 121409592
• Publisher: IEEE
• Year: 2003
• Weight: 326 KB
• Category: Article
• ISBN-13: 9780780377653
• DOI: 10.1109/VTSA.2003.1252599