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Über die Existenz der Oxydationsstufen Si2O, SiO und Si2O3 des Siliciums

✍ Scribed by A. Faessler; H. Krämer

Publisher
John Wiley and Sons
Year
1959
Tongue
English
Weight
332 KB
Volume
459
Category
Article
ISSN
0003-3804

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✦ Synopsis

Mit 2 Abbildungen Herrn Professor Dr. Walther Gerlach zum 70. Geburtstage gewidmet Inhaltsubersieht Die Existenz der Oxydationsstufen Si20 und Si203 wird durch Untersuchungen des Si K-Rontgenemissionsspektrums sichergestellt. Das technische SiO ist keine einheitliche Substanz, sondern ein Gemisch von Si und verschiedenen Si-0-Verbindungen.

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