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Zur Realstruktur von Ga1–xInxAs LPE-Schichten

✍ Scribed by Prof. Dr. E. Butter; Dr. B. Jacobs; Dr. H. Krämer; Dr. W. Schmidt; J. Stary; Dr. W. Wolff


Publisher
John Wiley and Sons
Year
1975
Tongue
English
Weight
459 KB
Volume
10
Category
Article
ISSN
0232-1300

No coin nor oath required. For personal study only.

✦ Synopsis


Abstract

Ga~1–x~In~x~As‐Epitaxieschichten (0,02 < × < 0,12) auf (111)‐orientierten GaAs‐Substraten wurden aus nichtstöchiometrischen Schmelzen erhalten. – Die aus Strukturätzungen ermittelten Versetzungsdichten lagen zwischen 2 · 10^5^ cm^−2^ und 3 · 10^7^ cm^−2^, in Abhängigkeit von der Zusammensetzung, der Schichtdicke und der Abkühlungsgeschwindigkeit. – Röntgentopographische Untersuchungen an {110}‐Spaltflächen lieferten Informationen über die Schichtperfektion und deuten am Heteroübergang Schicht/Substrat auf Verspannungen des Substratgitters hin. Die röntgenographische Gitterkonstantenbestimmung bestätigt die Gültigkeit der Vegardschen Regel im untersuchten Konzentrationsbereich. Die Halbwertsbreite von Doppelkristall‐Reflexionskurven, die Ätzgrubendichte und die relative Photolumineszenzintensität zeigen analoge Abhängigkeiten von der Zusammensetzung der Schichten.


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The multiple layer structure nGaAs(n Gal \_,In,As) p Gal \_,In,As (0 5 x 5 0.18) was realized by liquid phase epitaxy from I1i-Ga-As-melts on (1 11)-oriented GaAs substrates. The InAs-content of the mixed crystal layers was found to be dominating for crystal perfection and growth rate. The cathodol