A method for the preparation of GaAs layers of different thickness on GaAs from solutions of Ga a t constant temperatures is described using inner cooling of t h c substrate holder by a gas flow. The dependence of the growth rate on the intensity of inner cooling, movement of the substrate holder, a
✦ LIBER ✦
Zum Wachstum von AIII-BV-Verbindungen aus nichtstöchiometrischen Schmelzen (III) Untersuchungen zur Flächenmorphologie homoepitaktischer GaAs-Schichten
✍ Scribed by Dr. H.-J. Tietze; Prof. Dr. E. Butter
- Publisher
- John Wiley and Sons
- Year
- 1973
- Tongue
- English
- Weight
- 459 KB
- Volume
- 8
- Category
- Article
- ISSN
- 0232-1300
No coin nor oath required. For personal study only.
✦ Synopsis
Abstract
Für die Oberflächenmorphologie bei der Bildung von GaAs‐Schichten aus Ga‐Lösung wird die primäre Bildung von charakteristischen Löchern verantwortlich gemacht. Die Entstehungsursache dieser Löcher wird gedeutet mit Hilfe geringer Verspannungen, welche aus kleinen Gitterfehlanpassungen resultieren.
📜 SIMILAR VOLUMES
Zum Wachstum von AIII-BV-Halbleitern aus
✍
H.-J. Tietze; Dr. R. Andrae; Dozent Dr. E. Butter
📂
Article
📅
1971
🏛
John Wiley and Sons
🌐
English
⚖ 499 KB