✍ Scribed by Dr. H.-J. Tiller; H.-W. Holzinger; Dr. U. Demme; D. Lenke; Prof. Dr. habil. K. Meyer
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Bie der Wechselwirkung von Bestandteilen der positiven Säule einer Glimmentladung mit Metallschichtoberflächen kommt es zur Abtragung von Oberflächenmaterial. Die Abtragungsrate liegt weit über der aus Sputterergebnissen für die niederenergetischen Ionen im Oberflächenbereich zu erwartenden.
Wird die Abtragung im Impulsbetrieb durchgeführt, kommt es zu einer Erhöhung der Abtragungsgeschwindigkeit, die auf eine Störung des Gittergefüges durch Rekonstruktionserscheinungen und Gaseinbau in den Impulspausen zurückgeführt wird.
Das Abtragungsverhalten der Schicht ist stark vom Plasmagas und den Wandstromdichten abhängig, wobei es bei geringen Wandstromdichten (i~W~ ∼10^−5^ A. cm^−2^) durch die Verminderung der Abtragung möglich wird, die infolge der Plasma‐Trägergas‐Metall‐Wechselwirkung auftretenden reaktiven Oberflächenveränderungen und die Gasaufnahme der Schicht zu untersuchen.
Gestützt durch Elektronenbeugungsaufnahmen an Ni‐ und Au‐Schichten sowie durch kinetische Auswertung der Abtragungsraten, wird die Vorstellung entwickelt, daß während der Plasmaeinwirkung eine kritische Oberflächenschicht von ca. 30 bis 50 Å Dicke im Gleichgewicht mit einer darüberliegenden Metalldampf‐Plasmagas‐Phase steht.
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kleiner als in den NH,-Koniplexen. Die Abstande des Ions vom N-At,om des Liganden stimnien fur HCN und NH, weitgehend iiberein. Die Struktur des Solvensmolekiils wird nur wenig veriindert, bemerkenswert ist nur die Verkiirzung des CN-Abstandes in den Komplexen, besonders deutlich im protonierten HCN