Untersuchungen zur Wachstumskinetik von Oxidschichten auf polykristallinem Wismut mit Hilfe der Röntgenphotoelektronenspektroskopie

✍ Scribed by Dr. N. Wagner; Prof. Dr. O. Brümmer

• Publisher: John Wiley and Sons
• Year: 1978
• Tongue: English
• Weight: 376 KB
• Volume: 13
• Category: Article
• ISSN: 0232-1300
• DOI: 10.1002/crat.19780130405

✦ Synopsis

Untersuchungen zur Wachstumskinetik von Oxidschichten auf polykristallinem Wismut mit Hilfe der Rontgenphotoelektronenspektroskopie Herrn Professor Hermann NEELS anliiBlich seines 65. Geburtstages gewidmet Photoelektronenspektroskopische Untersuchungen ergeben, daB auf einer polykristallinen Wismut-Oberflache ein dickenbegrenztes inhomogenes Schichtenwachstum einer Sauerstoffschicht erfolgt. Das Material wurde unter definierten Bedingungen im Labor ausgelagert. Die Wachstumskinetik w i d clurch einen MehrstufenprozeB bestimmt, hervorgerufen durch lokale Unterschiede im Kontaktpotential zwischen Metal1 und Metalloxid. Die Unterschiede entstehen durch eine inhomogene Verteilung von Leerstellen im Kationengitter des Bi,O,. Diesen SchluBfolgerungen liegen in den Anlaufbereichen des Schichtenwachstuins der Mott-Cabrera-Mechanismus, in den ,,Siittigungs"bereichen ein logarithrnisches Wachstumsgesetz zugrunde. Die Rfodelle gestatten eine gute Beschreibung der experimentell bestiminten Wachstumsparameter.

Investigations of photoelectronic spectra give informations on a thickness-limited inhomogeneous growth rate of oxide films on a polycrystalline bismuth surface. The material has been exposed under definite conditions in the laboratory. The growth kinetics can be described b y a multi-step process produced by local metal-oxide work function differences. These distinctions are caused by a n inhomogeneous vacancy distribution in the cation sublattice of Bi,O,. A Mott-Cabrera-law (in the regions of the Anlaufvorgange) and a logarithmic law (in the "saturation" regions) allow a good description of the experimentally determined growth parameters.