Amorphous Ti,_,Cu, alloys were prepared by means of melt spinning in the range 0.28 c .Y < 0.75. The crystallization behaviour of these alloys was studied using differential scanning calorimetry and X-ray diffraction. In most amorphous alloys crystallization proceeded by formation of either the tetragonal Ti,Cu phase (Cl lb-type) or the tetragonal y-TiCu phase (Bl l-type). Crystallization of the &-rich alloys involved a new phase hitherto not reported in the literature. The crystallization temperatures of the amorphous Tir _x Cu, were found to occur around 700 K and to show little variation with concentration. These features are expected on the basis of the hole model proposed earlier. The crystallization temperatures were studied as a function of the heating rate and the results were analysed by means of the Kissinger-Boswell method. The activation energies for crystallization obtained from this analysis increase strongly towards the middle concentration range, This was explained in terms of a temperature-dependent configurational entropy in conjunction with the occurrence of chemical shortrange ordering.
R&sum&Nous avons prepare des alliages Ti,_,Cu, par filage en phase fondue, avec 428 d x c 0,75. Nous avons ttudii la cristallisation de ces alliages par calorimttrie diff&rentielle a balayage et par diffraction de rayons X. Dans la plupart de nos alliages amorphes, la cristallisation se produisait par formation de la phase quadratique TisCu (type Cl lb) ou de la phase quadratique TiCu-y (type BI I). La cristallisation des alliages riches en cuivre mettait en jeu une nouvelle phase qui n'ttait pas signalC dans la litterature. Les temperatures de cristallisation des alliages amorphes Ti,_,Cu, etaient voisines de 700 K, et elles variaient peu avec la concentration. On s'y attendait d'aprts le modele a trou propose anterieurement. Nous avons ttudi6 la variation des temperatures de cristallisation en fonction de la vitesse de chauffage et nous avons analys6 ces resultats par la methode de Kissinger et Boswell. Les energies d'activation pour la cristallisation obtenues par cette analyse ttaient nettement plus elevets vers le milieu du domaine des concentrations. Nous expliquons ceci par une variation de l'entropie de configuration en ronction de la temperature, associee a une mise en ordre chimique a courte distance.
Zusammenfassamg-Amorphe
Legierungen des Typs Ti, -.$u, mit x im Bereich 0,28 bis 0.75 wurden mittels Bandspritxen hergestellt. Mit differentieller Abtastkalorimetrie und Rontgenbeugung wurde das Kristallisationsverhalten dieser Legierungen untersucht. Die Kristallisation lluft in den meisten amorphen Legierungen iiber eine Ausbildung der tetragonalen Phase TisCu (Cl lb-Typ) oder der tetragonalen Phase y-TiCu (Bll-Typ) ab. Bei der Kristallisation der kupferreichen Legierungen trat eine bislang in der Literatur nicht beschriebene neue Phase auf. Die Kristallisationstemperatur von Ti,_,Cu, lag bei 700 K und hing kaum von der Konxentration ab. Diese Befunde werden nach dem friiher vorgeschlagenen Lochmodell erwartet. Die Kristallisationstemperaturen wurden in Abhangigkeit von der Aufheizrate gemessen und nach Kissinger-Boswell analysiert. Die damit erhaltene Aktivierungsenergie der Kristallisation nimmt zum mittleren Konzentrationsbereich stark zu. Dieser Befund IlBt sich erklBren mit einer temperaturabhiingigen Konfigurationsentropie und mit dem Auftreten einer chemixhen Nahordnung.