The relationship between inhibition of electrodeposition and incorporation of the inhibitor into the deposit

✍ Scribed by S.S. Kruglikov; Yu.D. Gamburg; N.T. Kudryavtsev

• Publisher: Elsevier Science
• Year: 1967
• Tongue: English
• Weight: 373 KB
• Volume: 12
• Category: Article
• ISSN: 0013-4686
• DOI: 10.1016/0013-4686(67)80108-7

✦ Synopsis

An attempt is made to correlate experimental data on the cathodic consumption of thiourea in an acid copper plating solution with polarization data. The consumption rate has been assumed to be directly proportional both to surface coverage and to current density. Using the Langmuir adsorption isotherm and the concept of simple blocking action, consumption rates have been calculated and found to be in fair agreement with the experimental rates. R&stun&Es.4 de coordination avec les dom&s polarographiques de r&wltats exp&imentaux sur la consommation cathodique de thioume dam une solution acide d'&ctrod6position de cuivre. On suppose que la vitesse de consommation est directement proportionnelle a la fois a la surface et a la densite de courant. En utilisant l'isotherme d'adsorption de Langmuir et le concept d'une simple action de bloquage, les vitesses de consommation ont et6 calcuRes et trouv6es en parfait accord avec les vitesses ex*entales. -Es wird versucht, eine Korrelation xwischen den experimentellen Werten des kathodischen Verbrauchs von Thiohamstoff in sauren Kupferbadem und der Elektrodenpolarisation aufxustellen. Die Geschwindigkeit des Verbrauchs wurde als direkt proportional sowohl xur Obcrfklchenbedeckung als such xur Stromdichte angenommen. Unter Verwendung der Langmuir-Adsorptionsisotherme und der Hypothese einer einfachen Blockierungswirkung wurden Verbrauchsgeschwindigkeiten berechnet. Berechnete und