The oxidation of ( 001) and (100) faces of pure magnesium single crystals at 2.5 mm Hg oxygen pressure was measured at 400ยฐC and 440ยฐC by means of an all-quartz, high vacuum microbalance.
In a first approximation a parabolic oxidation law is observed. The oxidation rate on the basal plane is initially higher than on the prismatic plane. Electron diffraction patterns and photomicrographs indicate that the oxide has a preferred orientation on the basal plane, even for a thickness of about 1000 .&.
The oxidation of evaporated magnesium films at room temperature was also investigated.
After an induction period a logarithmic oxidation law is observed, where the limiting thickness is dependent on l,be oxygen pressure?. OXYDATION DE MONOCRISTAUX ET FILMS EVAPORES DE MAGNESIUM L'auteur a mesure l'oxydation des faces (001) et (100) de monocristaux en magn&sium pur B une prcssion de 2,s mm. Hg, it 400 et 440ยฐC au moyen d'une microbalance de haut vide en quartz. I1 observe, en premiere approximation, une loi d'oxydation parabolique. La vitesse d'oxydation sur le plan basal est initialement plus &levee que sur le plan prismatique. Les cliches de diffraction Qlectronique et les microphotographies indiquent que l'oxyde a une orientation prkfbrentielle sur le plan basal meme pour une iipaisseur d'environ 1000 A. L'auteur a Bgalement Btudib l'oxydation B tempbrature ambiante, de films de magn&ium evapord. Apr&s une periode d'induction il observe une loi d'oxydation logarithmiquc oil 1'Ppaissour limite depend de la pression d'oxyg&ne. OXYDATION VON EISKRISTALLEN UND AUFGEDAMPFTEN SCHICHTEX SUS MAGNESIUM Die Osydat,ion an (001). und (100).Ebenen van reinen Magnesiumeinkristallen wurde in Sauerstoff van 2,s mm Hg bei 400ยฐC und 440ยฐC mit Hilfe einer Hochvakuum-Mikrowaage aus Quart gemessen. In erster NBherung wird ein parabolisches Oxydationsgesetz beobachtet.
Die Oxydationsgeschwindigkeit ist anfiinglich an der (001).Fliiche grijBer als an der (100).Fliiche.
Elektronen-und lichtmikroskopische Aufnahmen zeigen, da0 das Oxyd an der Basisebene eine Vorzugsorientierung besitzt, sogar noch bei c,iner Stiirke van 1000 A.
Ebenso wurde die Oxydation von aufgedampften Magnesiumschichten bei Raumtemperatur unternucht,. Sach einer Anlaufzeit stellt sich ein logarithmischos Oxydationsgesetz oin, wobei cler Endwcrt tlor Schichtdicke vom Sauerstoffdruck abhlngt.