Komplexboride in den Systemen Hf−Mo−B und Hf−W−B
✍ Scribed by P. Rogl; H. Nowotny; F. Benesovsky
- Publisher
- Springer Vienna
- Year
- 1971
- Tongue
- English
- Weight
- 562 KB
- Volume
- 102
- Category
- Article
- ISSN
- 0026-9247
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## Abstract Dünne Schichten aus HfB~2~ und Hf(B,N) wurden mit einer Ti‐Zwischenschicht in einer Hochfrequenz‐Sputteranlage auf Stahlsubstrate aufgebracht. Dabei wurden die Beschichtungsparameter Bias‐Spannung und Gasgesamtdruck im Fall von HfB~2~ so wie der Stickstoffluß bei Hf(B,N) systematisch va
Inhaltsu È bersicht. U 2 Ta 6 O 19 entstand u È ber chemischen Transport mit HCl (p (HCl, 298 K) = 1 atm; Quarzglasampulle) im Temperaturgefa È lle (T 2 ® T 1 ; 1000 °C ® 950 °C) in Form schwarzer hexagonaler Kristalle bei T 1 ausgehend von einem Gemenge aus UO 2 , Ta 2 O 5 und HfO 2 (bzw. ZrO 2 ) (