We have measured the diffusion of aNi radiotracer into polycrystalline NiO. nominally doped with 0.1% Cr (Cr/Ni ratio) in the temperature range 600 to 900Β°C. The experiments show that Cr doping increases diffusion of Ni in the oxide lattice, but decreases diffusion of Ni along grain boundaries provided that the grain boundary CdNi ratio is sufficiently large (greater than about 1%). This is believed to be due to the formation of immobile Cr-vacancy pairs which block fast boundary diffusion.
The oxidation rate of Ni 0.1% Cr alloy is, however, slightly faster than that of pure Ni at 700"C, at which temperature grain boundary diffusion should be dominant. This apparent discrepancy between oxidation rates and diffusion studies, it is argued, is due to the complicating effects of low Cr mobility, a duplex film structure and inward oxygen transport during oxidation of the alloy.
Aufgrund von Messungen der Diffusion von 63Ni in polykristallinem NiO (nominell dotiert mit 0,1% Cr) im Temperaturbereich 600-900"C wird durch das Dotieren die Diffusion des Mittels im Oxidgitter beschleunigt, entlang der Korngrenzen hingegen verlangsamt, sofern das CrlNi-Verhaltnis an den Korngrenzen gro6er als etwa 1% ist. Dieses Verhalten wird der Bildung von unbeweglichen Cr-Leerstellenpaaren zugeschneben, welche die schnelle Korngrenzendiffusion blockieren. Die Oxidationsrate der Ni-0,l Cr-Legierung liegt jedoch bei 700Β°C etwas hoher als die von reinem Nickel, obwohl bei dieser Temperatur die Korngrenzendiffusion dominant sein sollte. Diese scheinbare Diskrepanz zwischen Oxidations-und Diffusionsgeschwindigkeiten 1iBt sich der Tatsache zuschreiben, da6 bei niedrigen Gehalten die Mobilitat des Chroms durch komplexe Faktoren beeinfluat wird, da6 eine Duplex-Schichtstruktur entsteht und wahrend der Oxidation der Legierung Sauerstoff nach innen transportiert wird.