Einwirkung von Chlortrifluorid auf Athylen in der Gasphase
**) Aus dem lnstitut fur Technische Chemie der Technischen Hochschule Hannover (Eingegdngen am 26. Februar 1965) In einen Reaktor rnit definierter Reaktionszone wurden rnit Stickstoff verdunntes Athylen und Chlortrifluorid mit Geschwindigkeiten bis zu 100 m/sec eingedust. Von den durch Additions-und Substitutionsrzaktionen entstandenen 30 Verbindungen konnten 2 I, entsprechend 95 -98 :/: der Gesamtausbeute, rnit Sicherheit, 2 weitere mit groBer Wahrscheinlichkeit identifiziert werden. -Dcr Addition von CIF, F2 und C12 an CHz=CHl folgten Substitutionsreaktionen von Wasserstoff durch Fluor oder Chlor und Chlor durch Fluor, nicht jedoch von Fluor durch Chlor. -. Die Zusammensetzung der Reaktionsgemische konnte im wesentlichen durch gaschromatographische Untersuchungen geklirt wcrden. Die Additionsschritte lieBen sich durch die Umsetzung anderer halogenierter Athylene, die Substitutionen durch die Umsetzung von halogenierten k h a n e n rnit CIFj sichern. Als Ergebnis konnte ein Schema fur die einzelnen Stufen der Reaktion aufgestellt werden; fur die praparative Gewinnung einzelner Reaktionsprodukte lieBen sich optimale Bedingungen finden und experimentell bestitigcn.
Vorairssetzungen ckr Umsetzung von ClF3 niit Athvlm
Die techriische Herstellung sowohl der Frigene der Athanreihe als auch der Kunststoff-Monomeren der Athylenreihe erfolgt im allgemeinen nach zum Teil recht umstandlichen Mehrstufenprozessen, die durch unmittelbare Halogenierung von Athylen vereinfacht werden konnten. Es liegt nahe, die Darstellung von Fluor-und Fluorchlorathanen durch unmittelbare Fluorierung von k h a n oder Chlorathanen oder durch Addition der Halogene an die Doppelbindung des Athylens zu versuchen. Bei Fluorierungsreaktionen hat man mit Erfolg Fluor durch das besser zu handhabende Chlortrifluorid ersetzt, so zum Beispiel bei der Gasphasenfluorierung aromatischer Verbindungen 1.2).
Chlortrifluorid, bereits 1930 von 0. Ruff' entdeckt, wird u. a. verwendet zur Gastitration nach Knrz und Barr3) und zur Herstellung thermisch und chemisch hochresistentcr ale *I 1. Mitteil.: G. Schiemnnn und K. Bromme, Chem. Ber.98, 3410 (1965), vorstchend.