The effect of temperature and concentration of HC1 aqeous solutions on the etching behaviour on the face (1 11) of CaF, single crystals is investigated. It has been observed that the shape and the evolution of etch pits and the values of dissolution rate depend on the etching conditions. From the plots of logarithm of dissolution rate versus inverse of absolute temperature the values of activation energy and the pre-exponential factor for the dissolution process are computed. It has been found that the value of the activation energy and of the pre-exponential factor do not remain constant with acid concentration, but exhibit a minimum for the concentration of 6 N.
Untersucht wird der EinfluB der Temperatur und der Konzentration von HC1-Losungen auf die Btzung der (111)-Flachen von CaF,-Einkristallen. Es wurde festgestellt, daS die Form.und die Evolution der Btzgruben, sowie der Wert der Losungsgeschwindigkeit von den Atzbedingungen abhangen. Aus dem Schaubild des Logarithmus der Losungsgeschwindigkeit als Funktion des Kehrwertes der absoluten Temperatur wird die Aktivierungsenergie und der preexponentielle Faktor fur den Losungsvorgang berechnet. Diese GrijBen bleiben bei veranderlicher Saurekonzentration nicht konstant, sondern weisen fur eine Konzentration von 6 N ein Minimum auf.