✍ Scribed by I. Mekjavić; B. Lovreček
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The kinetics of dissolution and deposition of bismuth on the Bi amalgam electrode in perchloric acid with and without the presence of phenol has been investigated galvanostatically.
By analysis of the kinetic parameters it has been established that the mechanism of dissolution and deposition processes of bismuth are, in the presence of phenol, the same as in the pure solution, but they occur at higher overvoltages, dependent of the phenol concentration. This is attributed to the adsorption of phenol on the electrode surface, by which the effective cd is increased, From the shift of the as/log i curve in solutions with phenol the degree of surface coverage has been determined; the coverage data fit the Langmuir adsorption isotherm over a wide range of phenol concentrations.
In systems with phenol and also chloride, phenol still blocks the surface, and the process occurs with an effectively increased cd on the places occupied by chloride, which, however, maintains its activating effect. R&sum&Par la methode galvanostatique est &die, la cinetique de dissolution et de d&harge du bismuth sur l'tlectrode de l'amalgame Bi dans l'acide perchlorique, avec et sans presence de phenol. Par l'analyse des parametres cin&iques, il est etabli que les mecanismes du processus de dissolution et de d6charge du bismuth dans le systeme avee ph&rol, sont les memes que dans l'electrolyte pur, mais ils se developpent aux plus hautes surtensions, selon le concentration de ph6nol. Ce phenomene est attribue & l'adsorption de phenol 2t la surface de l'&ctrode, ce qui cause une augmentation des de&t& effectives de courant. Si l'on d&place les courbes VA/log i dans des solutions avec ph&rol, le degr6 de recouvrement de l'electrode est determine, et l'on trouve que, pour une large region de concentration de phenol, les resultats du recouvrement conviennent au modele d'isotherme de Langmuir. En cas de systeme avec phenol et avec prt%ence de l'ion chlorure, on trouve que le phenol bloque aussi le surface et le processus se d6veloppe sur une densite de courant augment& aux endroits occup& par l'ion chlorure qui, eependant, conserve son activation. Zusamrueufassun~--Es wurde mittels der galvanostatischen Methode die Kinetik der AuSosungund Awscheidung von bismuth auf einer Bi-Amalgamelektrode in Perchlosaure mit oder ohne Anwesenheit von Phenol untersucht. Die Analyse der kinetischen Parameter ergibt, dass die Mechanismen der Aufliisungs und Awscheidungsprozesse von bismuth bei dem System mit Phenol die gleichen, wie bei reinem Elektrolyt sind, jedoch entwickeln sie sich bei hiiheren Uberspannungen, die von der Konrertration des Phenols abhlngig sind. Diese Erscheinung wird der Adsorption von Phenol an der Oberl%iche der Elektrode, wodumh die effecktive Stromdichte sich vergrossert, zugeschrieben. Aus der Kurvenverschiebung na/log i wurde such bei der Phenollijsung der Bedekungsgrad der Elektrode bestimmt; es wurde gefunden, dass f& ein grosses Gebiet der Phenolkoruentration die Daten fiir die Bedekung der Elektrode der Langmuir-Typ-Adsorptionisotherme entsprechen. Bei dem System mit Phenol in Gegenwart VOII Chlorid wurde festgestellt, dass das Phenol such die Oberfliiche blokiert, und der Prozess mit effektiv vergrijsserter Stromdichte auf den mit Chlorid besetzen Stellen ablgnft,
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