About a critical thickness of the passive layer on iron at the flade potential

✍ Scribed by Dr. A. Pinkowski

• Publisher: John Wiley and Sons
• Year: 1986
• Tongue: German
• Weight: 553 KB
• Volume: 37
• Category: Article
• ISSN: 0947-5117
• DOI: 10.1002/maco.19860371003

✦ Synopsis

An analysis of capacitance potential data of passive iron on the basis of the theory of critical states yields a critical point near the Flade potential EF. The critical point is characterized by a minimal critical thickness of the passive layer of about 1.3 nm at EF, yielding a field strength within the passive film of 4.6 . 106 Vcm-'. The Flade potential can be interpreted within the framework of the PIN model of the iron passive layer (91 as the minimal external "force", necessary for the formation of stoichiometric y-Fez03. The system behavior near the critical point can be appropriate described by the short range order or lattice gas model.

Eine Analyse von Kapazitats-Potential-Messungen an passivem

Eisen auf der Grundlage der Theorie der kritischen Zustande ergibt einen kritischen Punkt in der Nahe des Flade-Potentials EF. Der kritische Punkt ist charakterisiert durch eine minimale kritixhe Schichtdicke von etwa 1,3 nm bei EF, entsprechend einer Feldstarke innerhalb der Passivschicht von 4,6 . 106 Vcm-'. Im Rahmen des PIN-Modells der Eisenpassivschicht f9] kann das made-Potential als die minimale adere ,,Kraft" gedeutet werden, die erforderlich ist, um stochiometrisches y-Fe,03 zu erzeugen. Das Verhalten des Systems in der Nahe des kritischen Punktes kann am besten durch das Gitter-Gas-Modell beschrieben werden.