Über die Bestimmung des Konzentrationsprofiles von Diffusionsschichten in Silizium aus Schichtleitfähigkeitsmessungen
✍ Scribed by G. Ksoll
- Publisher
- John Wiley and Sons
- Year
- 1961
- Tongue
- English
- Weight
- 475 KB
- Volume
- 1
- Category
- Article
- ISSN
- 0370-1972
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✦ Synopsis
Abstract
Es wird ein Auswertungsverfahren von Schichtleitfähigkeitsmessungen mit der Vierpunktmethode angegeben, das bei Kenntnis der Konzentrationsabhängigkeit der Beweglichkeit die Bestimmung des Konzentrationsprofiles ohne spezielle Annahmen über die Konzentrationsverteilung gestattet.
Experimentelle Untersuchungen von diffusionserzeugten p‐Schichten in n‐Silizium ergeben in der Nähe des Überganges starke Abweichungen der gemessenen Verteilung von der Exponential‐ bzw. der komplementären Fehlerverteilung.
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