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Über die Bestimmung des Konzentrationsprofiles von Diffusionsschichten in Silizium aus Schichtleitfähigkeitsmessungen

✍ Scribed by G. Ksoll


Publisher
John Wiley and Sons
Year
1961
Tongue
English
Weight
475 KB
Volume
1
Category
Article
ISSN
0370-1972

No coin nor oath required. For personal study only.

✦ Synopsis


Abstract

Es wird ein Auswertungsverfahren von Schichtleitfähigkeitsmessungen mit der Vierpunktmethode angegeben, das bei Kenntnis der Konzentrationsabhängigkeit der Beweglichkeit die Bestimmung des Konzentrationsprofiles ohne spezielle Annahmen über die Konzentrationsverteilung gestattet.

Experimentelle Untersuchungen von diffusionserzeugten p‐Schichten in n‐Silizium ergeben in der Nähe des Überganges starke Abweichungen der gemessenen Verteilung von der Exponential‐ bzw. der komplementären Fehlerverteilung.


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