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Zur Herstellung von Kupfer-Einkristallschichten durch Hochvakuumaufdampfung

✍ Scribed by Prof. Dr. W. Kleber; Dr. L. Ickert; K. Stüdemann

Publisher
John Wiley and Sons
Year
1970
Tongue
English
Weight
823 KB
Volume
5
Category
Article
ISSN
0232-1300

No coin nor oath required. For personal study only.

✦ Synopsis

Kupfer wurde bei einem Vakuum von 5 bis 8 . Torr auf (001) von NaCl aufgedampft. Die Tragerkristalle wurden in Luft gespalten sowie abgedampft und mit Wasser benetzt. Die in Luft gespaltenen Proben wurden einer anschlieaenden Temperung ausgesetzt. Die Untersuchung der erzeugten Cu-Schichten erfolgte mit einem Transmissionselektronenmikroskop durch Beugung und Abbildung. Es wurden die Bedingungen (Tragertemperatur, Schichtdicke, Aufdampfrate) festgestellt, bei denen Cu auf NaCl in einer Einkristall-Orientierung aufwachst.

Copper was evaporated onto (001)-NaCl in a vacuum of 5 to 8 x Torr.

Different treatments of substrates were: cleavage in air, evaporation in vacuo and wetting with water. Samples with air-cleaved substrates were subsequently annealed also. The Cu-films were examined by TED and TEM.

Conditions (substrate temperature, film thickness, condensation-rate) for monocrystalline epitaxy of Cu on NaCl are stated.

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