Workshop "Plasma-, Ionen-und Elektronenquellen und ihre Stromversorgungen" am 29. November 2006 in Dresden Ein Wachstum von 20 % pro Jahr, wie wir es aus dem Plasmaoberfla ¨chentechnik-Anlagenbau gewohnt sind, findet nicht von selbst statt. Es muss durch Innovationen sta ¨ndig neu erka ¨mpft werden. Die Forderungen der Ma ¨rkte sind 1. bessere Qualita ¨t, d.h. Haftfertigkeit der Schichten, Poren-und Dropletfreiheit, kristalline Perfektion, Schichtdickengleichfo ¨rmigkeit usw. auch bei weiterhin kleiner werdenden Strukturen und somit bedingt du ¨nneren Schichten 2. niedrigere Kosten durch ho ¨here Beschichtungsraten und somit ku ¨rzere Prozesszeiten. Reserven sind vor allem bei den Kernkomponenten der plasmatechnischen Anlagen zu suchen: den Plasma-, Ionen-und Elektronenstrahlenquellen und deren Stromversorgungseinheiten. Der von der Europa ¨ischen Forschungsgesellschaft Du ¨nne Schichten e.V. veranstaltete Workshop wendet sich gleichzeitig an Vertreter l des Anlagenbaus zur Plasmaoberfla ¨chentechnik einschließlich der elektrotechnischen Zulieferindustrie l der Anlagennutzer in Entwicklung und Produktion auf dem Gebiet der Pra ¨zisionsschichtabscheidung sowie l der plasmatechnischen und -physikalischen Grundlagenforschung Weitere Erfolge z.B. beim Pulsmagnetronsputtern oder beim Hochstrom-Vakuumbogen ko ¨nnen nur in enger Zusammenarbeit von Anlagenhersteller und Nutzer erreicht werden.
Die Europa ¨ische Forschungsgesellschaft Du ¨nne Schichten e.V. ist als Mitglied der Arbeitsgemeinschaft industrieller Forschungsvereinigungen "Otto von Guerikke" e.V. Tra ¨ger von Projekten des vom BMWi gefo ¨rderten PRogramms "Industrielle Gemeinschaftsforschung" und wu ¨rde es begru ¨ßen, wenn auf dem Workshop geknu ¨pfte Kontakte zu gemeinsamen Vorhaben fu ¨hrten.
Interessenten wenden sich bitte an Dr.