Untersuchungen zum Einfluß von Schichtherstellparametern auf Hochtemperatur-und Verschleißverhalten von PVD-Schichten

✍ Scribed by Dipl.-Phys. Dr. G. Kleer; Dipl.-Phys. Dr. W. Döll

• Publisher: John Wiley and Sons
• Year: 1993
• Tongue: English
• Weight: 775 KB
• Volume: 24
• Category: Article
• ISSN: 0933-5137
• DOI: 10.1002/mawe.19930240305

✦ Synopsis

Abstract

Nitridische Hartstoffschichten sind von Interesse für die Verbesserung des Einsatzverhaltens von Werkzeugen für die zähplastische Formgebung optischer Komponenten aus anorganischen Gläsern. In der vorliegenden Untersuchung wurden AIN‐ und TiN‐Schichten durch reaktives Zerstäuben auf Stahl‐, Hartmetall‐, Glas‐ und Silicium‐Substratmaterialien aufgebracht. Dabei wurden die Prozeßparameter: Gesamtgasdruck, Partialdrucke von Stickstoff und Argon, Abstand vom Target zum Substrat und Substrattemperatur variiert. Besonders wird auf die Beeinflussung der Schichtspannung durch die Prozeßparameter und auf das mechanische Verhalten von Schichten mit unterschiedlichen Zug‐ bzw. Druckeigenspannungen eingegangen. Unter anderem wurde beim A1N, hergestellt in DC‐Tetroden‐Prozeß, ein Übergang von Zug‐ zu Druckspannungen bei Variation des Gesamtdruckes bzw. des Abstands zwischen Target und Substrat erreicht. Schichten mit Druckeigenspannungen zeigten einen höheren Widerstand gegen Rißinitiierung unter punktförmiger Belastung und ein günstigeres Verschleißverhalten.