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Transmission electron-microscope observations of the structure of electrolytically deposited copper and its annealing behaviour

✍ Scribed by T.G. Stoebe; F.H. Hammad; M.L. Rudee


Publisher
Elsevier Science
Year
1964
Tongue
English
Weight
359 KB
Volume
9
Category
Article
ISSN
0013-4686

No coin nor oath required. For personal study only.

✦ Synopsis


Transmission electron-microscope

studies have been made of high purity copper samples electrolytically deposited at room temperature from an acid copper electrolyte at current densities of l-1, 2.7 and 5.4A/dma. Samples were deposited in the bulk and thinned for observation.

The microstructure was dominated by very fine growth twins at the low deposition rates; the higher deposition rates reduced the number of twins, and increased the number of dislocation tangles and grown-in stacking faults. Annealing the 2.7 A/dmB samples at 150°C increased the dislocation density, while at higher temperatures recrystallization occurred. Samples deposited in cyanide and pyrophosphate copper baths showed a very fine grain size.

R&m&Des

khantillons de cuivre de haute puretd obtenus par d&p& 6lectrolytique rl temperature ordinaire B partir de bains cuivriques acides et B des densites de courant de l,l, 2,7 et 5,4 A/drn' ont dti &udi& par microscopic tlectronique de transmission.

Les khantillons depost% ont 6th amincis pour les observations. La microstructure est domin& par la t&s fine croissance de jumeaux aux basses vitesses de dep&; les vitesses plus blev&s rkduisent le nombre de jumeaux et augmentent le nombre d'enchev&e.ments de dislocations et de fissures d'empilement. Le recuit & 150°C des tihantillons obtenus B 2,7 A/dms augmente la densiti des dislocations, tandis qu'il de plus hautes temperatures une recristallisation a lieu. Les khantillons depoti & partir de bains cuivriques de cyanure et de pyrophosphate exhibent une t&s fine dimension de grains. Zusammmfw-Hochreines elektrolytisches Kupfer wurde durch Transmission-Elektronenrnikroskopie untersucht. Das Metal1 wurde aus sauren Btidern bei Stromdichten von 1,l 2,7 und $4 A/drng bei Zimmertemperatur abgeschieden. Fiir die mikroskopische Untersuchung wurden die abgeschiedenen Schichten diinner gemacht. Bei geringen Abscheidungsgeschwindigkeiten besteht die Mikrostruktur haupts&hlich aus sehr kleinen Wachstumszwillingen.

Erhijhung der Abscheidungsgeschwindigkeit verkleinert die Anzahl Zwillinge und vergriissert die Zahl von Versetzungsknaueln und eingewachsenen Stapelfehlem.

Gliihen der mit 2,7 A/dmB abgeschiedenen Proben bei 150°C erhiiht die Versetzungsdichte, wiihrend bei hiiheren Temperaturen Rekristallisation auftritt. Metallschichten, die aus Cyanid-und Pyrophosphat-Bldern abgeschieden wurden, hatten eine sehr kleine Komgriisse.