The oxidation of tantalum at 50–300°C

✍ Scribed by D.A Vermilyea

• Publisher: Elsevier Science
• Year: 1958
• Weight: 741 KB
• Volume: 6
• Category: Article
• ISSN: 0001-6160
• DOI: 10.1016/0001-6160(58)90003-8

✦ Synopsis

The thicknesses of oxide films formed in oxygen were estimated from measurements of the electrical capacitances of the films after oxidation. The oxidation of tantslum at temperatures below 350°C is adequately described by the Cabrera-Mott theory for the growth of thin oxide films on metals. L'OXYDATION DU TANTALE ENTRE 50-300°C L'Bpaisseur des films d'oxyde form& dans l'oxyg&ne a BtB e&m&e it partir de mesures des capacitbs Blectriques de ces films apr& oxydation. L'oxydation du tantale Q des temp&atures infbrieures it 350°C est convenablement d&rite par la thborie de Cabrera-Mott sur la croissance de minces films d'oxyde sur les mbtaux. DIE OXYDATION VON TANTAL ZWISCHEN 50"-300%. Die Dicken van in Sauerstoff gebildeten Oxydschichten werden aus Kapazit&tsmessungen abgeschiitzt. Die Oxydation van Tantal l&s& sich bei Temperaturen unterhalb 350°C durch die Cabrera-Mottsche Theorie des Wachstums diinner Oxydschichten auf Metaller ausreichend beschreiben.