Spannungsfaktoren eines Risses in der Umgebung eines Kreisloches und ihr Einfluß auf das Bruchverhalten

✍ Scribed by Dr. G. Klein

• Publisher: John Wiley and Sons
• Year: 1975
• Tongue: English
• Weight: 483 KB
• Volume: 6
• Category: Article
• ISSN: 0933-5137
• DOI: 10.1002/mawe.19750060106

✦ Synopsis

Abstract

Es wurden Modellexperimente durchgeführt, um den Einfluß von Inhomogenitäten – wie etwa Poren oder Einschlüsse – auf das Bruchverhalten unter statischer Belastung zu untersuchen. Änderungen der Ausbreitungsrichtung eines Risses, verursacht durch die Wechselwirkung mit einem Kreisloch in einer einachsig belasteten Platte, wurden gemessen. Zum Verständnis der beobachteten Abweichungen wurden die Spannungsfaktoren K~I~ und K~II~ eines Risses in der Nähe eines Kreisloches in einer Platte spannungsoptisch bestimmt. Hierzu wurden die Isochromaten um eine Rißspitze durch Verwendung eines Äquidensitenfilmes photographisch verschärft und die erhaltenen Linien durch ein nicht‐lineares Optimierungsprogramm an die Nahfeld‐Lösung der Spannungsverteilung um eine Rißspitze angepaßt.