✦ LIBER ✦
Reimer, E.: Patentgesetz und Gebrauchsmustergesetz, Systematischer Kommentar, begründet von Prof. E. Reimer; 3., erweiterte Auflage, neu bearbeitet von Prof. K. Nastelski, R. Neumar, Ernst Reimer und W. Trüstedt. Carl Heymanns Verlag K. G. Köln–Berlin–Bonn–München 1968. 2505 Seiten, Plastik DM 248,–
✍ Scribed by G. Graefe
- Publisher
- John Wiley and Sons
- Year
- 1968
- Tongue
- English
- Weight
- 165 KB
- Volume
- 20
- Category
- Article
- ISSN
- 0038-9056
No coin nor oath required. For personal study only.