Reactive Low Voltage Ion Plating (RLVIP). Prozess-, Plasma- und Schichteigenschaften am Beispiel von Ta2O5/SiO2

✍ Scribed by S. Schlichterle; G. N. Strauss; H. Tafelmeier; D. Huber; H.K. Pulker

• Book ID: 111702063
• Publisher: John Wiley and Sons
• Year: 2005
• Tongue: English
• Weight: 676 KB
• Volume: 17
• Category: Article
• ISSN: 0947-076X
• DOI: 10.1002/vipr.200500256