Prozeßoptimierung bei der Hartstoffbeschichtung im Plasma-CVD-Verfahren mit Hilfe der optischen Emissionsspektroskopie
✍ Scribed by Prof. Dr.-Ing. K.-T. Rie; Dipl.-Ing. A. Gebauer; Dipl.-Phys. J. Wöhle
- Publisher
- John Wiley and Sons
- Year
- 1993
- Tongue
- English
- Weight
- 538 KB
- Volume
- 24
- Category
- Article
- ISSN
- 0933-5137
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✦ Synopsis
Abstract
Die Abscheidung von Titannitridschichten mit dem Puls‐PA‐CVD‐Verfahren wurde mit Hilfe der optischen Emissionsspektroskopie untersucht. Ti^+^ und N wurden als wachstumsbestimmende Spezies ermittelt. Ein Auftreten von TiN in der Gasphase bei höheren Plasmaleistungen verschlechtert die Schichteigenschaften, wie z.B. die Härte. Die Untersuchung der chemischen Zusammensetzung der Schichten zeigt ein gegensätzliches Verhalten von Stickstoff und Chlor. Der Chlorgehalt hat einen starken Einfluß auf die Härte der Schichten. In der Entladung konnte Chlor in atomarer Form nachgewiesen werden. Titanchloride treten nicht auf. Die Behandlungsparameter haben auch einen Einfluß auf die Morphologic des Kristallwachstums.