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Plastische Verformung von Siliziumeinkristallen unterschiedlicher Ausgangsversetzungsdichte im Streckgrenzenbereich

✍ Scribed by Dr. J. Doerschel; Dr. F.-G. Kirscht; Dr. R. Baehr


Publisher
John Wiley and Sons
Year
1977
Tongue
English
Weight
706 KB
Volume
12
Category
Article
ISSN
0232-1300

No coin nor oath required. For personal study only.

✦ Synopsis


Abstract

Mittelorientierte ZF‐Siliziumkristalle — versetzungsfrei und mit eingewachsenen Versetzungen (EPD~0~ = 6,5 · 10^4^ cm^−2^) — wurden in Kompression im Temperaturbereich 1120 … 1300 K bis zur unteren Streckgrenze dynamisch verformt. Die Untersuchung der Versetzungsstruktur plastisch deformierter Kristalle (T = 1138 K; a~0~ = 1,45 · 10^−4^ s^−1^) erfolgte mittels Ätztechnik und Höchstspannungselektronenmikroskopie.

Beide Materialien zeigen wesentliche Unterschiede sowohl im Verformungsverhalten als auch in der sich ausbildenden Versetzungsstruktur. Charakteristisch für das versetzungsfreie Ausgangsmaterial sind (1) der inhomogene Verformungsablauf im Bereich der oberen Streckgrenze sowie (2) eine höhere Gesamtversetzungsdichte und ein größerer Anteil sessiler Lomer‐Versetzungen an der unteren Streckgrenze im Vergleich zum versetzungsbehafteten Kristall.

Die gemessenen Spannungen werden mit den aus Strukturdaten auf Basis der Plastizitätstheorie diamantähnlicher Halbleiter berechneten Werten verglichen.


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