The diffusion-induced recrystallization, DIR, in NiO reported by Parthasarathy and Shewmon, has been investigated by means of scanning electron microscopy and EDS analysis. High purity metallic nickel was oxidized to NiO in air at 1200°C for 24 h and subsequently annealed with metallic nickel in vacuum at 850°C for 24 h. A large number of submicron particles formed on the oxide surface. The EDS analysis showed that the particles consist of metallic nickel rather than NiO and consequently the reaction should not be characterized as DIR but as a reduction of the oxide.
Resllme-Nous avons
CtudiC par microscopic t9ectronique B balayage et par analyse EDS la recristallisation induite par diffusion dans NiO qui avait tt& signal& par Parthasamthy et Shewmon. Nous avons oxyde en NiO du nickel mitallique de haute pure& dans l'air B 1200°C pendant 24 h, et nous I'avons ensuite soumis a un recuit avec du nickel rn~~lliq~, sous vide B 850°C pendant 24 h. De nombreuses particules de dimensions inftrieures au gm se ferment sur la surface de l'oxyde. L'anafyse EDS montre que ces particules sont plut& du nickel m&allique que du NiO, et done que la &action n'est pas caracteristique d'une recristallisation induite par la diffusion, mais d'une tiduction de l'oxyde. Zusammenfassung-Die von Parthasarathy und Shew-mon berichtete diffusionsinduzierte Rekristallisation in NiO wurde im Rasterelektronenmikroskop mit energiedispersiver Analyse untersucht. Hochreines Ni wurde hierzu in Luft bei 1200°C f"ur 24 Stunden zu NiO oxidiert und anschiieBend mit metallischem Nickel im Vakuum bei 850°C 24 Stunden lang ausgeheilt. Hierbei bildetcn sich eine g&e Zahl von Teifchen mit Su~krometer~~~ auf der Oxidfliiche. Die energiedispersive Analyse z&t, daB die Teilchen aus reinem Nickel bestehen, und nicht aus NiO. Folglich sollte die Reaktion nicht als diffusionsinduzierte Rekristallisation, sondem als eine Reduktion des Oxids angesehen werden.