Kolloidchemische und oberflächenphysikalische Aspekte bei der Entwicklung von Kupfer-CMP-Slurries

✍ Scribed by A. Nennemann; L. Krüger; L. Puppe; G. Passing

• Publisher: John Wiley and Sons
• Year: 2003
• Tongue: German
• Weight: 111 KB
• Volume: 75
• Category: Article
• ISSN: 0009-286X
• DOI: 10.1002/cite.200390293