On cold-worked tantalum the recovery occurring at approximately 400°K was investigated for different oxygen contents by measuring the Snoek damping, the electrical resistivity, and the dynamic E-modulus. The electrical resistivity recovering in this stage increases linearly with the oxygen content. Simultaneously one observes a decrease of the Snoek damping and a recovery of the amplitude dependent modulus defect. The experimental results can be interpreted in terms of the migration of oxygen atoms and their association at dislocations. INFLUENCE DE LA TENEUR EN OXYGENE SUR LA RESTAURATION DU TANTALE DEFORME A FROID La restauration du tantale deforme B froid a Qte Btudiee en fonction de la teneur en oxygene a des temperatures voisines de 400°K par des mesures de frottement interne (determination du pit de Snoek), de resistivite Blectrique et du module de Young dynamique. La resistivite Blectrique pendant cette &tape de la restauration, augmente avec la teneur en oxygene, d'une fa9on lineaire. En mhme temps, on observe une diminution de la friction interns de Snoek et une restauration du dcfaut de module qui est independant de l'amplitude. Les resultats experimentaux peuvent 6tre interpret& par la mobilite d'atomes d'oxygene et leur rassemblement pres des dislocations. 1. EINLEITUNG Die wenigen bisher vorliegenden Arbeiten iiber die Erholung kubisch-raumzentrierter Metalle der V. und VI. Nebengruppe des Periodensystems und des Eisens(1-21) beschaftigen sich vorwiegend mit der Untersuchung der nach Verformung und Bestrahlung auftretenden sogenannten Stufe III. Fiir diese Stufe, die bei etwa l/8 bis l/5 der absoluten Schmelztemperatur liegt, sind bisher folgende Deutungen vorgeschlagen worden : (a) Wanderung und Ausheilung von Leerstellen(2-11) (b) Wanderung von Zwischengitteratomen und ihre Rekombination mit Leerstelleno2-16) (c) Wanderung und Umlagerung von interstitiellen Fremdatomen(17-22) Rosenfield(22) hat die aus Erholungsmessungen bestimmte Aktivierungsenergie dieser Stufe mit der Wanderungsenergie der beweglichsten interstitiellen Verunreinigung in dem betreffenden Metal1 verglichen *