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Ein Beitrag zur Bestimmung der Eindringtiefe von Dotanden in Siliziumdioxidschichten auf Silizium

✍ Scribed by M. Frenzel


Publisher
John Wiley and Sons
Year
1973
Tongue
English
Weight
494 KB
Volume
8
Category
Article
ISSN
0232-1300

No coin nor oath required. For personal study only.

✦ Synopsis


Abstract

Es wird ein Überblick gegeben über die möglichen Untersuchungsverfahren zur Bestimmung der Eindringtiefe von Dotanden in Siliziumdioxidschichten auf Silizium. An Hand der Bestimmung der Eindringtiefe von Bor und Phosphor werden einige Verfahren ausführlicher erläutert. Die bei allen Verfahren anfallenden Schichtdickenmessungen erfolgten ellipsometrisch.