✦ LIBER ✦

Der Einfluß der chemischen Bindung und der Beimischung von Wasserstoff auf die myonischen Röntgenkaskaden in Jod und Niob

✍ Scribed by Hartmann, F. J. ;Pfeiffer, H. J. ;Springer, K. ;Daniel, H.

Book ID: 105471101
Publisher: Springer-Verlag
Year: 1974
Weight: 295 KB
Volume: 271
Category: Article
ISSN: 0044-3328
DOI: 10.1007/bf02126190

No coin nor oath required. For personal study only.

📜 SIMILAR VOLUMES

Einfluß der chemischen Bindung auf die L

Einfluß der chemischen Bindung auf die Lα1,2− und Lβ1− Röntgenemissionsspektren des Arsens

✍ Szargan, B.; Leonhardt, G.; Flöther, F.U.; Meisel, A. 📂 Article 📅 1973 🏛 Elsevier Science 🌐 English ⚖ 216 KB

Der Einflußdes Lösungsmittels und der Ko

Der Einflußdes Lösungsmittels und der Kohlensorte auf die Kinetik der Adsorption. von Jod aus strömenden Lösungen

✍ Kataeva, N. A. ;Charin, A. N. 📂 Article 📅 1962 🏛 Springer-Verlag ⚖ 144 KB

Der Einfluss von Waldfeldbau auf die phy

Der Einfluss von Waldfeldbau auf die physikalischen und chemischen Eigenschaften der Waldböden

✍ Němec, Antonin 📂 Article 📅 1935 🏛 Springer 🌐 German ⚖ 504 KB

Einfluß der chemischen Bindung auf die w

Einfluß der chemischen Bindung auf die weichen Röntgenemissions-l-Spektren von Kalium, Chlor und Schwefel unter Benutzung eines Stearat-Film-Kristalls.

✍ W. Sternik 📂 Article 📅 1968 🏛 Springer 🌐 English ⚖ 72 KB

Der Einfluß von Röntgen- und Radiumbestr

Der Einfluß von Röntgen- und Radiumbestrahlung auf die Serumreaktion bei Tumorkranken (CaR).

✍ Falkenhausen, M. ;Fuchs, H. J. 📂 Article 📅 1932 🏛 Springer-Verlag ⚖ 263 KB

Zum Einfluß der Oberflächenbearbeitung u

Zum Einfluß der Oberflächenbearbeitung und der chemischen Zusammensetzung auf die Korrosion von Dental-Amalgamen

✍ Dipl.-Chem. H. Werner; Dr. Med. M. Weiland 📂 Article 📅 1990 🏛 John Wiley and Sons 🌐 German ⚖ 423 KB 👁 1 views

## Abstract Der Einfluß der Oberflächenbearbeitung und der chemischen Zusammensetzung von Amalgamen auf das Korrosionsverhalten wird durch Ermittlung geeigneter Bestimmungsgrößen aus potentiodynamischen Polarisationsmessungen mit niedriger (0,03 V min^−1^) und hoher (0,6 V min^−1^) Potentialänderun