Comparaison des cinetiques de formation de la couche passivante de WO3 sur des electrodes monocristallines de tungstene orientees (100) et (110) en milieu H2SO4 1 M*
✍ Scribed by Jacques Fauconnier; Pierre Vennereau
- Publisher
- Elsevier Science
- Year
- 1978
- Tongue
- English
- Weight
- 725 KB
- Volume
- 23
- Category
- Article
- ISSN
- 0013-4686
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✦ Synopsis
R&urn&-Une Ctude dttaillee des courbes chronoamptkomttrique associte B la mcsure directe des taux de recouvrement par l'intermkdiaire du pouvoir inhibiteur de WO, a permis de comparer les processus de formation de cet oxyde pour des tlectrodes de tungskne monocristallines orientees (100) et (110) en milieu HzS04 1M. Cette comparaison montre que la dissolution chimique de WOO et le nombre d'atomes 'en profondeur' de la couche limite inhibitrice ne depend paa de l'orientation cristallographique du m&al. Par contre, le nombre d'atomes superficiels mis en jeu pour former cette couche ainsi que les param&rea cidtiques des &tapes de la derni+re r&action d'oxydation du processus global dependent fortement de l'orientation cristallographique du tungsttne.