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Chromsäureesterphotolyse in Gegenwart von Eisen (III)- und Kupfer (II)-Komplexen

✍ Scribed by Horst Hennig; Peter Scheibler; Roland Wagener; Detlef Rehorek


Publisher
Wiley (John Wiley & Sons)
Year
2010
Weight
253 KB
Volume
22
Category
Article
ISSN
0044-2402

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## Abstract Es wurden potentiostatisch in 1N H~2~SO~4~ erzeugte bzw. einer Ausschaltaktivierung unterworfene Passivschichten von reinen FeCr‐Legierungen mit 7 bzw. 11% Chrom sowie solchen mit je 1% Kupfer mit XPS‐Analyse und XPS‐Drehwinkelexperimenten untersucht. Nach einstündiger Passivierung wurd