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Application de la théorie dynamique de la diffraction X à l'étude de la diffusion du bore et du phosphore dans les cristaux de silicium

✍ Scribed by Burgeat, J. ;Taupin, D.

Book ID: 114520712
Publisher: International Union of Crystallography
Year: 1968
Weight: 453 KB
Volume: 24
Category: Article
ISSN: 0567-7394
DOI: 10.1107/s0567739468000124

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